ASML在DUV時代就與德國光學巨頭蔡司光學繫結，而日本的尼康就不用說了，本身就是世界最頂級的專業光學器件研發製造企業。 美國雖然在EUV原理上 ...

目前EUV技术主要运用在逻辑工艺制程中，这导致了2019年订单量/需求量的上升。 现在所用的193nm光源DUV其实是2000年代就开始使用的了，然而在更短波长光源 ...

DUV是一种光源，光刻机是一种投影曝光系统。在半导体制作过程中，光刻机会投射光束，穿过印着图案的掩模及光学镜片，将线路图曝光在带 ...

日前，中芯國際向阿斯麥採購了一批價值12億美元的光刻機的訊息， ... DUV光刻機的光路，主要利用光的折射原理，而且透鏡和晶圓之間可以採用不同的 ...

DUV光路主要利用光的折射原理。其中，浸没式光刻机会在投影透镜与晶圆之间，填入去离子水，使得193nm的光波等效至134nm；而干法光刻机则不会如此，其 ...

首先，二者發光原理不同。 DUV光刻機光源為準分子鐳射，而EUV光刻機則是鐳射激發等離子來發射EUV光子。透過不同方式，二者發出的光源也不同。