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[PDF] Ch 6: Lithography。

蝕刻與光. 阻剝除. 4. 光罩/倍縮光罩. (Mask). 曝光. Exposure. 顯影. Development. 紫外光. 負光阻. 基片. 正光阻. 基片. 光阻. 微影製程(Lithography).： 。

(news)銷售實績 - 極光照明科技網。

研發二處IC EPROM UV 曝光燈. 中華電信研究院楊梅院區. UV/O3-185nm矽晶圓臭氧清洗改質環型燈. 楠梓電子-平行光曝光機用高壓汞弧燈&橢圓反射鏡 採用無光罩損害之5Kw汞 ...。

UV曝光機光學 - 裕群光電。

曝光機主要原理是利用紫外線通過光罩、底片等圖案模版，並搭配顯影劑使用，去除晶圓表面的光阻，以形成積體電路圖案。

國內Semiconductor半導體曝光製程設備、TFT LCD面板 ...： 。

[PDF] 第一章緒論 - 國立交通大學機構典藏。

製程用的設備主要為光. 阻塗佈與顯影機（Track）。

以及曝光機（Scanner），主要的材料為光阻和顯影劑。

微影步驟. 包含去水烘烤、黏著層 ...： 。

光刻- 維基百科，自由的百科全書。

微影製程（英語：photolithography）是半導體器件製造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何圖形結構，然後通過刻蝕工藝將光掩模 ...。

[內層][手動]散射光曝光機- 志聖工業 - C SUN。

電話: +886-2-2601-7706; 傳真: +886-2-2601-8854; 電子郵件: [email protected]; 地址: 24450新北市林口區工二工業區工八路2之1號 ...： 。

圖片全部顯示。

科毅科技股份有限公司。

光電與半導體設備─ 曝光機，塗佈機，光罩，平行光源，高靈敏CCD相機. 科毅科技以客製化、自動化優勢，創出良好的銷售佳績，並以專業、積極的售後服務，在眾多半導體 ...： 。

[PDF] (11) 證書號數。

發明人:黃沛霖HUANG, PEI LIN (TW);黃浚彥HUANG, CHUN YEN (TW);王逸銘. WANG, YI MING (TW) ... 限制了其晶圓產出,故極端紫外光曝光機目前仍無法用於量產,而.： 。

[PDF] 微型化步進式曝光系統- Lithographic Stepper System - 台灣儀器科技 ...。

2020年9月22日 · 提供曝光機光學設計、機構設計、精密光學元件製作與系統組裝量測等服務。

本產品使用UV-LED 陣列作為光源，其優勢在於可個別調控光源功率，以達.：